Hafnijev tetraklorid | HfCl4 prah | CAS 13499-05-3 | tvornička cijena

Kratki opis:

Hafnijev tetraklorid ima važnu primjenu kao prekursor hafnijevog oksida, katalizator za organsku sintezu, nuklearne primjene i taloženje tankih filmova, što ističe njegovu svestranost i važnost u raznim tehnološkim područjima.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Pošaljite nam e-poštu

Detalji proizvoda

Oznake proizvoda

Opis proizvoda

Kratak uvod

Naziv proizvoda: Hafnijev tetraklorid
CAS broj: 13499-05-3
Formula spoja: HfCl4
Molekularna težina: 320,3
Izgled: Bijeli prah

Specifikacija

Artikal	Specifikacija
Izgled	Bijeli prah
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200 ppm
Fe	≤40 ppm
Ti	≤20 ppm
Si	≤40 ppm
Mg	≤20 ppm
Cr	≤20 ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤5 ppm
Al	≤60 ppm

Primjena

Prekursor hafnijevog dioksidaHafnijev tetraklorid se prvenstveno koristi kao prekursor za proizvodnju hafnijevog dioksida (HfO2), materijala s izvrsnim dielektričnim svojstvima. HfO2 se široko koristi u visoko-k dielektričnim primjenama za tranzistore i kondenzatore u poluvodičkoj industriji. HfCl4 je neophodan u proizvodnji naprednih elektroničkih uređaja zbog svoje sposobnosti stvaranja tankih filmova hafnijevog dioksida.
Katalizator organske sintezeHafnijev tetraklorid može se koristiti kao katalizator za različite reakcije organske sinteze, posebno polimerizaciju olefina. Njegova svojstva Lewisove kiseline pomažu u stvaranju aktivnih međuprodukata, čime se poboljšava učinkovitost kemijskih reakcija. Ova primjena je vrijedna u proizvodnji polimera i drugih organskih spojeva u kemijskoj industriji.
Nuklearna primjenaZbog visokog presjeka apsorpcije neutrona, hafnij tetraklorid se široko koristi u nuklearnim primjenama, posebno u kontrolnim šipkama nuklearnih reaktora. Hafnij može učinkovito apsorbirati neutrone, pa je prikladan materijal za regulaciju procesa fisije, što pomaže u poboljšanju sigurnosti i učinkovitosti proizvodnje nuklearne energije.
Taloženje tankog filmaHafnijev tetraklorid koristi se u procesima kemijskog taloženja iz pare (CVD) za stvaranje tankih filmova materijala na bazi hafnija. Ovi filmovi su bitni u raznim primjenama, uključujući mikroelektroniku, optiku i zaštitne premaze. Mogućnost taloženja ujednačenih, visokokvalitetnih filmova čini HfCl4 vrijednim u naprednim proizvodnim procesima.