Hafnium tetrachride | HFCL4 prah | CAS 13499-05-3 | tvornička cijena

Kratki opis:

Hafnium tetrahlorid ima važnu primjenu kao prekursor hafnium oksida, katalizator organske sinteze, nuklearne primjene i taloženja tankog filma, ističući njegovu svestranost i važnost u različitim tehnološkim poljima.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Pošaljite nam e -poštu

Detalj proizvoda

Oznake proizvoda

Opis proizvoda

Kratak uvod

Naziv proizvoda: Hafnium tetrachride
CAS NO.: 13499-05-3
Formula složenih: HFCL4
Molekularna masa: 320.3
Izgled: Bijeli prah

Specifikacija

Artikal	Specifikacija
Izgled	Bijeli prah
Hfcl4+zrcl4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Prijava

Prekursor hafnium dioksida: Hafnium tetraklorid se prvenstveno koristi kao prethodnik za proizvodnju hafnium dioksida (HFO2), materijala s izvrsnim dielektričnim svojstvima. HFO2 se široko koristi u visoko-K dielektričnim aplikacijama za tranzistore i kondenzatore u industriji poluvodiča. HFCL4 je ključan u proizvodnji naprednih elektroničkih uređaja zbog svoje sposobnosti formiranja tankih filmova hafnij dioksida.
Katalizator organske sinteze: Hafnium tetraklorid može se koristiti kao katalizator za različite reakcije organske sinteze, posebno olefinsku polimerizaciju. Njegova svojstva Lewisove kiseline pomažu u formiranju aktivnih intermedijara, poboljšavajući na taj način učinkovitost kemijskih reakcija. Ova je primjena vrijedna u proizvodnji polimera i drugih organskih spojeva u kemijskoj industriji.
Nuklearna primjena: Zbog svog presjeka visoke apsorpcije neutrona, hafnium tetraklorid se široko koristi u nuklearnim primjenama, posebno u kontrolnim šipkama nuklearnih reaktora. Hafnium može učinkovito apsorbirati neutrone, tako da je prikladan materijal za regulaciju procesa fisije, koji pomaže u poboljšanju sigurnosti i učinkovitosti proizvodnje nuklearne energije.
Tanko taloženje filma: Hafnium tetraklorid koristi se u kemijskim procesima taloženja pare (CVD) za stvaranje tankih filmova materijala na bazi Hafniuma. Ovi su filmovi ključni u raznim primjenama, uključujući mikroelektroniku, optiku i zaštitne premaze. Sposobnost ležišta jednoličnih, visokokvalitetnih filmova čini HFCL4 vrijednim u naprednim proizvodnim procesima.